小型臺式 ALD（原子層沉積）工具專為簡單的操作和安裝而設計，而不會犧牲其性能，用于成本效益型研究與開發(fā)。

采用半導體級元件、金屬密封線和強大的PLC驅(qū)動用戶界面，可快速循環(huán)和高品質(zhì)的多組分薄膜，易于維護，可重復和安全運行。

技術(shù)參數(shù)：

l 占地面積小桌面式ALD系統(tǒng)

l 可容納直徑為 4 /6/8英寸的樣品

l 可定制的卡盤(大型和批處理室(3+芯片)可供選擇)

l 兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，帶超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃標準

l 全鋁腔體，溫度范圍可達 315°C

l 靜態(tài)處理模式下提供高曝光

l 7英寸顯示屏，帶集成PLC控制

選項:定制卡盤/壓板，定制異形腔室，真空泵臭氧發(fā)生器(AT-03)，瓶加熱器，通風前驅(qū)體外殼，ALD前驅(qū)體集成QCM，手套箱集成，HT套件(前驅(qū)體至180°C)，起泡器，12英寸，需要更大尺寸可咨詢。升級到等離子體。定制系統(tǒng)。

設備優(yōu)勢

Ø 廠家是ALD領域的專家

Ø 高品質(zhì)組件（半導體級線路、閥門、金屬密封（無水或空氣侵入））

Ø 可信賴（PLC控制-無需驅(qū)動程序升級，無需附加卡）和可靠（非常容易維護）

Ø 是為實驗室技術(shù)人員設計的

Ø 小而緊湊的（不占空間）

Ø 小體積室意味著快速沉積和更少的前驅(qū)體廢物和深入滲透到三維結(jié)構(gòu)

Ø 快速升溫（和降溫）時間

Ø 化學物質(zhì)與反應物分離，因此不會沉積在管道，閥門等....

Ø 前驅(qū)體和腔體之間的長度短（減少線路堵塞的機會）

Ø 操作簡單（150個菜單連同標準配方）

為啥選擇Anric Technology???

  世界主流的ALD廠家，如ASM International N.V.， Beneq，Picosun， Oxford Instruments，TEL等，這些大廠專注于工業(yè)化的ALD設備。

Anric Technology： 專注于小的迷你的、臺式的ALD設備，操作簡單，維修經(jīng)濟方便，特別適用于科研用戶。

研發(fā)者介紹：

Philippe de Rouffignac， Ph.D 畢業(yè)于Harvard University，Department of Chemistry，導師Prof. Roy Gordon, 在讀博期間就設計開發(fā)了幾臺ALD設備，并在哈佛Center for Nanoscale Systems工作，期間進行了包括CVD/ALD預制器的開發(fā)，后出來創(chuàng)辦了Anric Technology，專注于迷你和臺式用于實驗室研究的ALD。