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大尺寸臺式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD 安瑞克(ANRIC)技術公司開發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級的厚度控制而著稱。其基本原理基于自限性表面反應，即依次將前驅體引入到基底上，每次循環(huán)形成一層原子級薄膜。這種精確的控制使得能夠沉積出無缺陷且可重復的超薄薄膜，從光滑表面到復雜的三維結構(如溝槽、多孔材料、纖維、膜和納米管)都能實現(xiàn)。
更新時間：2025-07-02
產(chǎn)品型號：AT-LT
瀏覽量：177
市面上最小的ALD，可放進手套箱，來自美國哈佛的原子層沉積系統(tǒng)$n兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。
更新時間：2025-06-05產(chǎn)品型號：AT 200M瀏覽量：1262
勻膠機有很多種稱謂，英文叫SpinCoater或者SpinProcessor，又稱甩膠機、勻膠臺、旋轉涂膠機、旋轉涂膜機、旋轉涂層機、旋轉涂布機、旋轉薄膜機、旋轉涂覆儀、旋轉涂膜儀、勻膜機，總的來說，他們原理都是一樣的，即在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉速度及時間有關
更新時間：2024-11-18產(chǎn)品型號：瀏覽量：488
CAM-C系列流延機面向較少資金投入的客戶設計，提供了更高的自動化水平，更高的精度和緊湊型設計，是一個真正創(chuàng)新型流延機
更新時間：2024-11-18產(chǎn)品型號：Keko C-系列瀏覽量：403
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