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當(dāng)前位置：首頁(yè)產(chǎn)品中心薄膜、塊體樣品制備ALD原子層沉積設(shè)備AT 200M迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱

迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

市面上最小的ALD，可放進(jìn)手套箱，來(lái)自美國(guó)哈佛的原子層沉積系統(tǒng)
兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。

產(chǎn)品型號(hào)：AT 200M
更新時(shí)間：2024-11-18
廠(chǎng)商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
訪(fǎng)問(wèn)量：706
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品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
應(yīng)用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,綜合

 

  • 原子層沉積系統(tǒng)ALD

  • 市場(chǎng)上占地面積最小的 ALD（原子層沉積）工具。AT200M 體積小巧，可以放入手套箱中，因此是濕氣或空氣敏感沉積的解決方案。

  • 占地面積?。▇ 15 in3 或 38.1 cm3）

  • 半導(dǎo)體級(jí)元件

  • 金屬密封管路

  • 通風(fēng)前驅(qū)體外殼

  • 兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，帶有超快速 MFC，用于集成惰性氣體吹掃

  • 前驅(qū)體（最高 150°C），歧管，腔室加熱以確保無(wú)冷凝。

  • 強(qiáng)大的 PLC 驅(qū)動(dòng)用戶(hù)界面

  • 不銹鋼腔室可加熱至 300°C。

 

規(guī)格：

  • 腔室溫度從 RT 到 300°C ± 1 °C

  • 前驅(qū)體溫度從 RT 到 150°C ± 2°C（帶加熱夾套）

  • 市場(chǎng)上占地面積最小（1.6 平方英尺），臺(tái)式安裝，兼容潔凈室，也適合手套箱。

  • 系統(tǒng)維護(hù)簡(jiǎn)單，公用設(shè)施和前驅(qū)體使用量低。

  • 腔室容積小

  • 非常快速的循環(huán)能力。

  • 完整的硬件和軟件互鎖，即使在多用戶(hù)環(huán)境中也能安全操作

 

 

 

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